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[发明专利]一种激光消散斑装置及激光投影设备-CN201811324192.6有效
发明人：宋丽培;王静茹;郭汝海;刘显荣;田有良 -专利权人：青岛海信激光显示股份有限公司
申请日： 2018-11-08 - 公布日： 2022-12-27 - 主分类号： G02F1/29 文献下载
摘要：本申请公开了一种激光消散斑装置及激光投影设备，该装置包括：第一电光晶体、第二电光晶体；激光器发出的激光入射到第一电光晶体，经第一电光晶体透射后入射到第二电光晶体，并在所述第二电光晶体内透射后从所述第二电光晶体的出光口出射；第一电光晶体与第二电光晶体的生长方向分别与入射于第一电光晶体的激光光束的入射方向垂直，且第一电光晶体与第二电光晶体的生长方向垂直；第一电光晶体和第二电光晶体分别受控于电压信号，且施加于第一电光晶体和第二电光晶体上的电压随时间改变，使得第一电光晶体和第二电光晶体的折射率随时间改变。
一种激光消散装置投影设备

[发明专利]一种电光调Q晶体器件、制备方法及电光调Q激光器-CN202111037108.4在审
发明人：夏明军;唐川;李如康 -专利权人：中国科学院理化技术研究所
申请日： 2021-09-06 - 公布日： 2023-03-10 - 主分类号： H01S3/115 文献下载
摘要：本发明实施例公开一种电光调Q晶体器件、制备方法及电光调Q激光器。在一具体实施方式中，该电光调Q晶体器件包括：沿电光调Q晶体器件的通光方向设置的第一电光晶体和第二电光晶体；第一电光晶体包括分别设置在其沿通光方向延伸的两相对侧面的第一电极膜；第二电光晶体包括分别设置在其沿通光方向延伸的两相对侧面的第二电极膜；第二电光晶体与第一电光晶体的结构相同，第二电光晶体的相对侧面与第一电光晶体的相对侧面之间存在设定的夹角。该实施方式的电光调Q晶体器件可有效补偿静态双折射的相位延迟，消除温度稳定性对电光调Q晶体器件的静态双折射变化的影响，保证电光调Q晶体器件的消光比。
一种电光晶体器件制备方法激光器

[发明专利]一种电光晶体薄膜、制备方法及电子元器件-CN202110103546.X有效
发明人：王金翠;张秀全;刘桂银;张涛;连坤;刘阿龙;杨超 -专利权人：济南晶正电子科技有限公司
申请日： 2021-01-26 - 公布日： 2022-05-17 - 主分类号： G02F1/035 文献下载
摘要：本申请公开一种电光晶体薄膜、制备方法及电子元器件，包括：由电光晶体基片工艺面向电光晶体基片内目标深度掺杂重质量离子；在电光晶体基片工艺面制备与光波导结构相同的掩模；由电光晶体基片工艺面向电光晶体基片内刻蚀，电光晶体基片内刻蚀后剩余的掺杂有重质量离子部分为光波导；填充电光晶体基片工艺面内被刻蚀掉区域，填充材料的折射率小于光波导的折射率，其中，填充于光波导间隙内的填充材料形成波导包覆层，由于在对电光晶体薄膜基片进行刻蚀处理之前，预先在电光晶体薄膜基片进行掺杂处理，使电光晶体薄膜基片内形成晶格损伤，从而可以提高刻蚀效率，避免了直接对电光晶体薄膜基片刻蚀处理会影响电光晶体薄膜层性能的问题。
一种电光晶体薄膜制备方法电子元器件

[实用新型]一种电光调制设备和再生放大器-CN201821884812.7有效
发明人：艾庆康;舒严 -专利权人：北京莱泽光电技术有限公司
申请日： 2018-11-15 - 公布日： 2019-08-23 - 主分类号： G02F1/03 文献下载
摘要：一种电光调制设备，包括沿光路设置的玻片和电光晶体，所述电光晶体包括相对设置的第一表面和第二表面；发射激光依次通过所述玻片和所述电光晶体；对所述电光晶体的所述第一表面进行正向加压，对所述电光晶体的所述第二表面进行反向加压，其中，对所述电光晶体的所述第一表面进行正向加压和对所述电光晶体的所述第二表面进行反向加压的两个步骤交替进行。上述电光调制设备，能够改变激光输出方向，有效降低了加载到电光晶体上的高压值，或者说在相同的高压和晶体长度下，可以允许更大的晶体通光孔径，从而降低了电光开关驱动装置的制作难度。
电光晶体电光调制设备加压第二表面第一表面再生放大器玻片正向激光电光开关光路设置晶体通光驱动装置输出方向相对设置加载发射制作

[发明专利]一种替代布儒斯特角切割的LN晶体的电光调Q开关-CN202011181502.0在审
发明人：吴文渊;何小玲;张昌龙;李东平;周海涛;王金亮;左艳彬;苏钰;宋旭东;童静芳 -专利权人：桂林百锐光电技术有限公司
申请日： 2020-10-29 - 公布日： 2021-01-01 - 主分类号： H01S3/115 文献下载
摘要：本发明公开了一种替代布儒斯特角切割的LN晶体的电光调Q开关，包括棱镜、第一电光晶体和第二电光晶体，棱镜、第一电光晶体、第二电光晶体沿通光方向依次排列；棱镜的工作面包括两通光面和两反射面，两通光面均镀设有增透膜，两反射面依据光线在界面是否会发生全反射决定镀设增反膜；第一电光晶体和第二电光晶体采用横向电光效应，沿X轴或Y轴方向通光，沿Z轴施加电场；第一电光晶体和第二电光晶体的主轴绕通光方向相互旋转90°第一电光晶体和第二电光晶体的本发明既满足了激光腔内光线产生特定平移的需求，又有效解决了传统布儒斯特角切割的LN电光Q开关温度稳定性差的问题。
一种替代布儒斯特角切割 ln 晶体电光开关

[实用新型]一种替代布儒斯特角切割的LN晶体的电光调Q开关-CN202022450850.5有效
发明人：吴文渊;何小玲;张昌龙;李东平;周海涛;王金亮;左艳彬;苏钰;宋旭东;童静芳 -专利权人：桂林百锐光电技术有限公司
申请日： 2020-10-29 - 公布日： 2021-04-30 - 主分类号： H01S3/115 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种替代布儒斯特角切割的LN晶体的电光调Q开关，包括棱镜、第一电光晶体和第二电光晶体，棱镜、第一电光晶体、第二电光晶体沿通光方向依次排列；棱镜的工作面包括两通光面和两反射面，两通光面均镀设有增透膜，两反射面依据光线在界面是否会发生全反射决定镀设增反膜；第一电光晶体和第二电光晶体采用横向电光效应，沿X轴或Y轴方向通光，沿Z轴施加电场；第一电光晶体和第二电光晶体的主轴绕通光方向相互旋转90°第一电光晶体和第二电光晶体的本实用新型既满足了激光腔内光线产生特定平移的需求，又有效解决了传统布儒斯特角切割的LN电光Q开关温度稳定性差的问题。
一种替代布儒斯特角切割 ln 晶体电光开关

[发明专利]一种电光晶体薄膜、制备方法及电子元器件-CN202110104258.6有效
发明人：刘桂银;张秀全;连坤 -专利权人：济南晶正电子科技有限公司
申请日： 2021-01-26 - 公布日： 2022-05-17 - 主分类号： G02F1/035 文献下载
摘要：本申请提供一种电光晶体薄膜、制备方法及电子元器件，包括：在电光晶体基片工艺面制备掩模；如果掩模与光波导结构相反，则由电光晶体基片工艺面向电光晶体基片内目标深度掺杂重质量离子，在电光晶体基片内形成波导层；如果掩模与光波导结构相同，则由电光晶体基片工艺面向电光晶体基片内目标深度掺杂轻质量离子，在电光晶体基片内形成波导层，其中，波导层中没有掺杂轻质量离子部分形成光波导，波导层中掺杂轻质量离子部分形成波导包覆层，光波导的折射率大于波导包覆层的折射率，通过在电光晶体基片中掺杂重质量离子或轻质量离子，形成光波导，而不需要通过对电光晶体基片刻蚀来形成光波导，从而能够保证最后得到的电光晶体薄膜层的完整性。
一种电光晶体薄膜制备方法电子元器件

[发明专利]电磁波测量用探头-CN202110886817.3在审
发明人：久武信太郎;及川阳一;宫地邦男;东条诚 -专利权人：国立大学法人东海国立大学机构;新信心股份有限公司
申请日： 2019-11-01 - 公布日： 2021-10-29 - 主分类号： G01R29/08 文献下载
摘要：本发明提供一种测量用探头，其使用于电磁波测量系统，所述测量用探头具备：第1测定部，其具有发挥电光效应的第1电光晶体、设置在该电光晶体的根基侧且传递光信号的第1光纤、以及设置在该电光晶体的前端侧且反射光信号的第1反射部；第2测定部，其具有第2电光晶体、第2光纤、以及第2反射部，所述第1电光晶体和所述第2电光晶体是1个电光晶体，在该1个电光晶体的根基侧连接有所述第1光纤和所述第2光纤。
电磁波测量探头

[实用新型]一种电光晶体开关的封装结构-CN201120451131.3有效
发明人：龚辉 -专利权人：上海镭立激光科技有限公司
申请日： 2011-11-15 - 公布日： 2012-07-11 - 主分类号： G02F1/03 文献下载
摘要：一种电光晶体开关的封装结构，包括一个玻璃包壳和一个晶体电极组合体，晶体电极组合体由一个电光晶体和两个金属电极构成，金属电极分别设置在电光晶体的两侧并与电光晶体相邻接触，玻璃包壳中设置有一个通孔，晶体电极组合体设置在通孔内，通孔的径向截面与晶体电极组合体的径向截面匹配，通孔的轴向截面与晶体电极组合体的轴向截面匹配。本实用新型利用激光直接在玻璃块中开设通孔形成玻璃包壳，实现对电光晶体精密封装，金属电极与电光晶体紧密电接触，消除了安装应力对电光晶体造成的破坏和电光相位延迟，而且直接采用玻璃材料封装电光晶体，防止了高压漏电和温度变形，使电光开关的关断能力得到了很大的提高，增强了电光开光的工作性能。
一种电光晶体开关封装结构

[发明专利]一种电光调制方法、电光调制设备及其应用和再生放大器-CN201811358128.X在审
发明人：艾庆康;舒严 -专利权人：北京莱泽光电技术有限公司
申请日： 2018-11-15 - 公布日： 2019-01-22 - 主分类号： G02F1/03 文献下载
摘要：一种电光调制方法，包括以下步骤：发射激光依次通过玻片和电光晶体，电光晶体包括相对设置的第一表面和第二表面；对电光晶体的第一表面进行正向加压，对电光晶体的第二表面进行反向加压，其中，对第一表面进行正向加压和对第二表面进行反向加压的两个步骤交替进行上述电光调制方法，对电光晶体的相对两个表面进行正向和反向交替加压，经过电光晶体的激光偏振态的旋转方向是交替变化的。从而改变激光输出方向。可以有效降低了加载到电光晶体上的高压值，或者说在相同的高压和晶体长度下，可以允许更大的晶体通光孔径。从而降低了电光开关驱动装置的制作难度。此外，还提供一种电光调制设备及其应用，及一种再生放大器。
电光晶体加压第二表面第一表面电光调制正向电光调制设备再生放大器激光激光偏振态电光开关交替变化晶体通光驱动装置输出方向相对设置玻片加载应用发射制作

[发明专利]光学谐振腔以及光学滤波器-CN202210371893.5在审
发明人：昌钟璨;万助军;欧阳奎 -专利权人：华为技术有限公司
申请日： 2022-04-11 - 公布日： 2023-10-24 - 主分类号： G02F1/03 文献下载
摘要：本申请提供了一种光学谐振腔以及光学滤波器，涉及光通信技术领域，其滤波效果有所提升，该光学谐振腔包括电光晶体；第一电极和第二电极，其中第一电极与第二电极沿电光晶体的传播方向分别设置在电光晶体的两侧；第一电极与第二电极向电光晶体施加电场，电场用于调节电光晶体的折射率，电场存在平行于传播方向的分量；第一反射膜和第二反射膜，其中第一反射膜设置在第一电极远离电光晶体的一侧，第二反射膜设置在第二电极远离电光晶体的一侧；温控结构，其中，温控结构向电光晶体施加温度，以调节电光晶体的折射率。
光学谐振腔以及滤波器

[发明专利]一种消除铁电光学晶体中光斑畸变的装置及方法-CN202211650787.7在审
发明人：宁建 -专利权人：南京南智芯光科技有限公司
申请日： 2022-12-21 - 公布日： 2023-03-28 - 主分类号： G02F1/05 文献下载
摘要：本申请公开了一种消除铁电光学晶体中光斑畸变的装置及方法，涉及激光技术领域。主激光照射铁电光学晶体时，将300nm—500nm的辅助光照射铁电光学晶体；且在铁电光学晶体中，主激光光束与辅助光光束交叉。本申请提出了采用短波长的蓝紫光/紫外光照射的铁电光学晶体，消除铁电光学晶体中的激光光斑畸变。
一种消除光学晶体光斑畸变装置方法

[实用新型]一种水冷导温型电光调Q开关-CN201920842924.4有效
发明人：王浩 -专利权人：山东和为光电科技有限公司
申请日： 2019-06-05 - 公布日： 2020-02-07 - 主分类号： H01S3/115 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种水冷导温型电光调Q开关，包括进水口和第二密封螺丝，所述进水口顶部的外部设置有过滤装置，所述进水口的底部安装有壳体，且壳体的内部连接有密封外壳，所述密封外壳的内部设置有水槽，且水槽的内部安装有电光晶体密封槽，所述电光晶体密封槽的内部连接有电光开关晶体，所述电光晶体密封槽外部的两端均安装有隔块。该水冷导温型电光调Q开关通过电光晶体密封槽与隔块的设置，能够在使用过程中较为便捷的对电光晶体密封槽进行快速的放置，方便使用者在对电光调Q开关进行组装时快速的找到电光晶体密封槽的位置，且电光调Q内部设置有水槽，可进行水循环，使电光晶体在工作时产生的热量能够及时释放。
电光晶体密封槽水槽电光调Q开关进水口密封外壳内部连接内部设置导温隔块壳体水冷电光开关晶体本实用新型过滤装置密封螺丝内部安装外部设置电光调Q 水循环组装释放外部

[发明专利]消除DKDP晶体电光开关内反向电场影响的方法-CN200710014822.5无效
发明人：李宇飞;侯学元;孙渝明;李群 -专利权人：山东大学
申请日： 2007-06-28 - 公布日： 2007-11-21 - 主分类号： G02F1/03 文献下载
摘要：本发明提供了一种消除DKDP晶体电光开关内反向电场影响的方法。该方法是将DKDP晶体电光开关内加在晶体两端的电极宽度都探出晶体端部一部分，探出部分的电极宽度大于或等于每端整个电极宽度的1/4。这样在反向电场区域没有晶体，那么即使存在反向电场，也不会对电光效应产生相反的作用。本发明将DKDP晶体电光开关内加在晶体两端的电极宽度的一部分探出晶体端部，使反向电场区域没有晶体，消除了电光晶体内反向电场对电光效应影响，反向电场不会对电光效应产生相反的作用。
消除 dkdp 晶体电光开关反向电场影响方法

[发明专利]光学谐振腔以及光学滤波器-CN202210371684.0在审
发明人：葛柯廷;昌钟璨;万助军;欧阳奎 -专利权人：华为技术有限公司
申请日： 2022-04-11 - 公布日： 2023-10-24 - 主分类号： G02F1/03 文献下载
摘要：本申请提供了一种光学谐振腔以及光学滤波器，涉及光通信技术领域，能够提高光学谐振腔的滤波效果，该光学谐振腔包括电光晶体；第一反射膜和第二反射膜；第一电极和第二电极，第一电极与第二电极向电光晶体施加的电场用于调节电光晶体的折射率；第一反射膜，用于在传播方向上透射输入光线至电光晶体；电光晶体，用于在电场的作用下，以预定折射率将第一反射膜透射的光线传输至第二反射膜；第二反射膜，用于将电光晶体传输的光线中的预定波长的光线输出，并将预定波长以外的其他波长的光线反射至电光晶体；电光晶体，还用于将第二反射膜反射的光线以预定折射率传输至第一反射膜；第一反射膜，还用于将电光晶体传输的光线反射至电光晶体。
光学谐振腔以及滤波器

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